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与牛共舞可靠:国产光刻机重大突破 打破科技霸权指日可待

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发表于 2023-2-14 10:03:09 | 显示全部楼层 |阅读模式
  据报道,近日哈工大宣布研发成功名为“高速超精密激光干涉仪”技术,这项技术是14纳米光刻机的重要技术,可以确保掩膜工作台、双工作台和物镜系统之间复杂的相对位置,实现光刻机的整体套刻精度,解决了光刻机的一项重要技术难题。这项技术获得了世界光子大会“金燧奖”的金奖,证明了技术的含金量。
  点评:据悉,中国已在双工作台、物镜系统、激光光源等光刻机技术方面已取得了进展,如今再有高速超精密激光干涉仪的技术突破,代表中国正进一步加快光刻机产业链的技术研发,中国也成为全球唯一一个拥有完善光刻机产业链的经济体。这几年美国的做法逼出了中国芯片行业的潜力,中国芯片屡屡打破空白,在存储芯片、射频芯片、GPU芯片方面都取得了突破,经过这几年的努力在光刻机关键技术上也陆续取得进展,打破科技霸权的日子正快步而来。
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