国产光刻机取得进展 打破科技霸权快步而来

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　　据报道，近日哈工大宣布研发成功名为“高速超精密激光干涉仪”技术，这项技术是14纳米光刻机的重要技术，可以确保掩膜工作台、双工作台和物镜系统之间复杂的相对位置，实现光刻机的整体套刻精度，解决了光刻机的一项重要技术难题。这项技术获得了世界光子大会“金燧奖”的金奖，证明了技术的含金量。
　　据悉，中国已在双工作台、物镜系统、激光光源等光刻机技术方面已取得了进展，如今再有高速超精密激光干涉仪的技术突破，代表中国正进一步加快光刻机产业链的技术研发，中国也成为全球唯一一个拥有完善光刻机产业链的经济体。这几年美国的做法逼出了中国芯片行业的潜力，中国芯片屡屡打破空白，在存储芯片、射频芯片、GPU芯片方面都取得了突破，经过这几年的努力在光刻机关键技术上也陆续取得进展，打破科技霸权的日子正快步而来。
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